Polvos faciales, polvos compactos, maquillaje de ojos o polvos suaves. Los polvos microfinos ofrecen colores intensos y regulares que se pueden aplicar de manera uniforme y agradable. La producción de estos cosméticos de alta calidad es compleja. La mezcla de pigmentos, sustratos, fragancias y componentes de cuidado es compleja de procesar, ya que tienen que micronizarse de forma uniforme. La producción se lleva a cabo en las estrictas condiciones higiénicas que dicta la ley.
Los frecuentes cambios de producto y de colores requieren una gran facilidad de limpieza y unos resultados perfectos. No en vano, muchos de los principales fabricantes de cosméticos producen productos cosméticos en polvo de alta calidad en los equipos de Hosokawa Alpine.
Cosméticos
El polvo más fino al servicio de la bellezaSoluciones individuales para la industria cosmética
Las instalaciones de molienda de Hosokawa Alpine se desarrollan especialmente para satisfacer los requisitos de la industria cosmética. El diseño de nuestra instalación cGMP ha sido perfeccionado, entre otras cosas, por la experiencia adquirida en el entorno farmacéutico, y ofrece resultados extraordinarios en la micronización de sustancias exigentes y a menudo precipitantes. La limpieza rápida y frecuente sin residuos durante los cambios de producto se da por descontada, de forma totalmente automática si se desea.
Con las instalaciones compactas se consigue el máximo rendimiento con productos de alta calidad. La protección contra el desgaste opcional evita la formación de velos grises causada por la abrasión del metal. El alto grado de automatización y la extensa documentación garantizan una alta calidad constante.
Ejemplos prácticos
Producto | Finura del producto final | Rendimiento kg/h | Tamaño de la máquina |
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Mezcla de talco y pigmento | 97 % < 20 μm | 35 | 160 UPZ |
Polvo cosmético | 99 % < 25 μm | 25 | 200 AS |
Polvo facial | 99 % < 100 μm | 100 | 315 UPZ |
Mezcla de talco y pigmentos | 99,9 % < 15 μm | 2 | 100 AS |
Polvo de maquillaje | 99 % < 15 μm | 5 | 100 AS |
Polvo facial | 99 % < 20 μm | 25 | 200 AS |